• Fallstudie I – Ätzschäden in Si-Wafer

    Die Einlagerung sehr kleiner Partikel in eine Schicht, die den Wafer vor einer Ätzlösung schützen sollte, führte zum Unterätzen dieser Schicht. Mit FIB-Cross-Sectioning konnte dieser Partikel scheibenweise freigelegt werden und ein Nanokanal im Partikel als  Ursache für die Undichtigkeit der Schutzschicht  gefunden werden. Für diesen Fall ist eine FIB-Anlage mit einen kleinen Ionenstrom, aber einem hochpräzise ...

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  • Fallstudie II – Querschnitt durch einen Vorderseiten- Kontaktfinger einer Solarzelle

    Fehlerhafter Vorderseiten-Kontaktfinger, bestehend aus einem Saat- und einem Leitbereich mit länglichem Hohlraum in der Leitschicht. Unerwünschte Hohlräume gibt es auch an den Grenzflächen zwischen Saatbereich und Si-Wafer sowie Saatbereich und Leitbereich. Für diese Anwendung ist eine FIB-Anlage mit einem hohen  Ionenstrom zur Herstellung des Schnittes und einem fein fokussierten Ionenstrahl zur Glättung der Oberfläche erforderlich. Es ...

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  • Fallstudie III – Bruchkante der Vorderseite einer Solarzelle mit p-n-Übergang

    Bruchkante einer Si-Solarzelle mit rot dargestelltem p-n-Übergang. Für diesen Fall ist ein SEM mit einer EBIC-Messeinrichtung erforderlich. Mit einer FIB-Anlage kann der Querschnitt an jeder beliebigen Stelle des p-n-Übergangs freigelegt werden und so die Qualität des p-n-Übergangs überprüft werden. Dazu ist eine FIB-Anlage mit mittlerem Ionenstrom und einem gut fokussierten Ionenstrahl erforderlich.

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  • Fallstudie IV – Rissbildung an der Stelle einer Schweißverbindung

    Rissbildung an einer Schweißverbindung von Oben betrachtet. Es nicht ersichtlich, ob es sich um eine oberflächliche, geringfügige Schädigung handelt oder ein größerer Schaden vorliegt.  Der FIB-Querschnitt zeigt, dass sich die Rissbildung an der Schweißverbindung bis tief in das Material erstreckt und auch Einlagerungen von Zinn aufweist. Dazu ist eine FIB-Anlage mit mittlerem Ionenstrom und einem gut fokussierten ...

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Weitere Beispiele für Anwendungen von FIB-REM-Zweistrahlanlagen (Videos)

Die folgenden Videos sind teilweise große Dateien und sollten nur unter Beachtung der erforderlichen Bandbreite geöffnet werden. Besonders vom Abspielen auf Mobilfunkgeräten ist abzuraten.

Was ist eine Zweistrahlanlage?  Wie und wofür wird sie eingesetzt?
Beispiel: FEI Versa 3D DualBeam

Video mit Ton

Fräsen von Kreiskegeln mit FIB, Lyra 3 TESCAN
Herstellung von Spitzen für AFM (Atomic Force Microscope) Zeiss Crossbeam
Simultaneous Milling and Imaging for FIB-SEM (ZEISS ATLAS 3D). Untersuchung von Supraleiterkabeln und Darstellung der Tiefenverteilung der Körner.
3D-Analyse des p-n-Übergangs von Solarzellen mittels EBIC-Methode (Electron Beam Induced Current)

Nanoworkbench zum Bearbeiten von Proben und Produkten (Klocke Nanotechnik GmbH)

Die Nanoworkbench von Klocke Nanotechnik ermöglicht die Auge-Hand-Koordination innerhalb des REM/FIB- Systems und erschließt völlig neue Anwendungen.
 
Greifer für das Sortieren von Partikeln und Greifen von Drähten (Klocke Nanotechnik GmbH)
 Messer für Nano-cutting (Klocke Nanotechnik GmbH)

Weitere Informationen zur Nanoworkbench und ihren Anwendungsmöglichkeiten finden Sie auf der Website der Klocke Nanotechnik GmbH